反滲透+EDI設(shè)備

       反滲透+EDI設(shè)備是采用目前上較為*的反滲透除鹽技術(shù)來制備去離子水，是一種純物理過程的制備技術(shù)。二級(jí)反滲透純水設(shè)備具有能*不間斷工作，自動(dòng)運(yùn)行無需專人看管，操作簡單，且水質(zhì)*穩(wěn)定，無污染物排放，制取純水成本低廉等優(yōu)點(diǎn)。

       反滲透+EDI設(shè)備優(yōu)點(diǎn):

      反滲透+EDI設(shè)備核心元件反滲透（RO）膜采用原產(chǎn)進(jìn)口卷式復(fù)合膜，高壓泵亦采用的進(jìn)口產(chǎn)品。系統(tǒng)配置了前級(jí)處理系統(tǒng)，如活性炭吸附過濾器和精密保安過濾器，在電控和自控方面，裝備了壓力自動(dòng)保護(hù)系統(tǒng)和水質(zhì)自動(dòng)在線監(jiān)測儀表系統(tǒng)，使設(shè)備操控系統(tǒng)一目了然，并且有前級(jí)進(jìn)水增壓，后級(jí)水箱液位聯(lián)動(dòng)接口。

反滲透+EDI設(shè)備工藝流程為：

　　1: 預(yù)處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點(diǎn)

　　2: 預(yù)處理－一級(jí)反滲透－二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn) 　　      3: 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn) ?　

　  4: 預(yù)處理→紫外線殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn) 　

反滲透+EDI設(shè)備水質(zhì)符合美國ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí)）

應(yīng)用范圍:  適用于制藥用水、化工工藝用水、中壓鍋爐補(bǔ)水、生物化工工藝用水、醫(yī)療衛(wèi)生用水、電子行業(yè)用純水、機(jī)械行業(yè)清洗冷卻用水、冶煉用水、民用純凈水。主要配置有原水箱、原水泵、機(jī)械過濾器、活性碳過濾器、精密過濾器、加藥裝置、一級(jí)反滲透主機(jī)泵、一級(jí)反滲透主機(jī)、清洗裝置、二級(jí)加藥裝置、二級(jí)反滲透主機(jī)泵、二級(jí)反滲透主機(jī)、淡水箱、淡水泵、純水箱、純水泵、紫外線殺菌器等。